Bemærk: Kan ikke leveres før jul.
Forventes på lager: 06-08-2010
This is the first book to address the optimization of resolution enhancement techniques in optical lithography. It provides an in-depth discussion of RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.
| Forlag | John Wiley & Sons Inc |
| Forfattere | Xu Ma, Gonzalo R. Arce |
| Type | Bog |
| Format | Hardback |
| Sprog | Engelsk |
| Udgivelsesdato | 06-08-2010 |
| Første udgivelsesår | 2010 |
| Serie | Wiley Series in Pure and Applied Optics |
| Originalsprog | United States |
| Sideantal | 256 |
| Indbinding | Hardback |
| Forlag | John Wiley & Sons Inc |
| Sideoplysninger | 256 pages |
| Mål | 241 x 160 x 18 |
| ISBN-13 / EAN-13 | 9780470596975 |