Bemærk: Kan ikke leveres før jul.
Forventes på lager: 28-09-2012
This book targets custom IC designers who are encountering variation issues in their designs, especially for modern process nodes at 45nm and below, such as statistical process variations, environmental variations, and layout effects.
| Forlag | Springer-Verlag New York Inc. |
| Forfattere | Trent McConaghy, Kristopher Breen, Jeffrey Dyck, Amit Gupta |
| Type | Bog |
| Format | Hardback |
| Sprog | Engelsk |
| Udgave | 2013 ed. |
| Udgivelsesdato | 28-09-2012 |
| Første udgivelsesår | 2012 |
| Illustrationer | XVI, 188 p. |
| Originalsprog | United States |
| Sideantal | 188 |
| Indbinding | Hardback |
| Forlag | Springer-Verlag New York Inc. |
| Sideoplysninger | 188 pages, XVI, 188 p. |
| Mål | 167 x 242 x 13 |
| ISBN-13 / EAN-13 | 9781461422686 |