Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMO... (Bog, Paperback / softback, Engelsk)
  1. Forside
  2. Bøger
  3. Engelske bøger
  4. Elektronik: kredse og komponenter
  5. Elektronisk udstyr og materialer
  6. Andre produktionsteknologier
  7. Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain...

Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

(Bog, Paperback / softback, Engelsk)
Forfatter: Guilei Wang
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Forlag: Springer Verlag, Singapore

Bemærk: Kan ikke leveres før jul.

Når du handler på WilliamDam.dk, betaler du den pris du ser.

  • Ingen gebyrer
  • Ingen abonnementer
  • Ingen bindingsperioder

Relaterede kategorier

Andre produktionsteknologier Elektronik: kredse og komponenter Elektronisk udstyr og materialer
  = Emner / kategorier
  = Sektioner / guides
  = Specialsider
  = Kampagner

Læsernes anmeldelser (0)

Alle detaljer

Forlag Springer Verlag, Singapore
Forfatter Guilei Wang
Type Bog
Format Paperback / softback
Sprog Engelsk
Udgave 2019 ed.
Udgivelsesdato 02-10-2020
Første udgivelsesår 2020
Serie Springer Theses
Illustrationer XVI, 115 p.
Originalsprog Singapore
Sideantal 115
Indbinding Paperback / softback
Forlag Springer Verlag, Singapore
Sideoplysninger 115 pages, XVI, 115 p.
Mål 235 x 155
ISBN-13 / EAN-13 9789811500480