1. Forside
  2. Bøger
  3. Engelske bøger
  4. Elektronik: kredse og komponenter
  5. Elektronisk udstyr og materialer
  6. Andre produktionsteknologier
  7. Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain...

Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

(Bog, Hardback, Engelsk)
Forfatter: Guilei Wang
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Forlag: Springer Verlag, Singapore

Når du handler på WilliamDam.dk, betaler du den pris du ser.

  • Ingen gebyrer
  • Ingen abonnementer
  • Ingen bindingsperioder

Relaterede kategorier

Andre produktionsteknologier Elektronik: kredse og komponenter Elektronisk udstyr og materialer
  = Emner / kategorier
  = Sektioner / guides
  = Specialsider
  = Kampagner

Læsernes anmeldelser (0)

Alle detaljer

Forlag Springer Verlag, Singapore
Forfatter Guilei Wang
Type Bog
Format Hardback
Sprog Engelsk
Udgave 2019 ed.
Udgivelsesdato 02-10-2019
Første udgivelsesår 2019
Serie Springer Theses
Illustrationer XVI, 115 p.
Originalsprog Singapore
Sideantal 115
Indbinding Hardback
Forlag Springer Verlag, Singapore
Sideoplysninger 115 pages, XVI, 115 p.
Mål 235 x 155
ISBN-13 / EAN-13 9789811500459